真空镀膜技术在镀膜工业中的应用

真空镀膜技术是真空应用技术的一个重要分支，它已广泛地应用于光学、电子学、能源开发，理化仪器、建筑机械、包装、民用制品、表面科学以及科学研究等领域中。真空镀膜所采用的方法主要有蒸发镀、溅射镀、离子镀、束流沉积镀以及分子束外延等。此外还有化学气相沉积法。假如真空泵镀层的目地是更改原料表层的物理学和工艺性能，该技术性是真空泵金属表层解决技术性的重要构成部分。现就其几个主要应用方面做一简单介绍。

在电子光学层面,用不一样化学物质层或层镀层的光学镜片或方解石表层,可变成高反射或者非反射膜(即反反射膜)或一切需要的反射或透射原材料占比,或能用来消化吸收一些光波长,并传送另一光波长的过滤器。高反射膜从大口径的天文望远镜和各种激光器开始、一直到新型建筑物的大窗镀膜茉莉，都很需要。透水性膜用以拍摄和各种各样激光发生器的起动，直至在建大中型镀层夹层玻璃，是十分必须的。增透膜则大量用于照相机和电视摄象机的镜头上。在电子学方面真空镀膜更占有极为重要的地位。各种规模的继承电路。包括存贮器、运算器、告诉逻辑元件等都要采用导电膜、绝缘膜和保护膜。作为制备电路的掩膜则用到铬膜。磁带、磁盘、半导体激光器，约瑟夫逊器件、电荷耦合器件（CCD）也都甬道各种薄膜。

在显示信息一部分，选用真空电镀法制取了平面图显示仪表的纪录头、密度高的视頻带和全透明导电膜、摄像管的光导膜和显示管显示屏的铝衬。在元件方面，在真空中蒸发镍铬，铬或金属陶瓷可以制造电阻，在塑料上蒸发铝、一氧化硅、二氧化钛等可以制造镀膜电容器，蒸发硒可以得到静电复印机用的硒鼓、蒸发钛酸钡可以制造磁致伸缩的起声元件等等。真空蒸发还可以用于制造超导膜和惯性约束巨变反应用的微珠镀层。