真空镀膜设备几种镀膜方式介绍

PVD镀膜也叫“物理气相沉积镀膜”这种涂装工艺应用范围广，局限性小，但真正了解它的人并不多。PVD镀膜设备更是屈指可数，下面青岛真空镀膜设备厂家小编为大家详细介绍一下，希望对大家有所帮助：

PVD三大分类：真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空挥发镀膜。

PVD用于镀膜的设备：一般称为PVD真空镀膜设备或PVD真空镀膜机

PVD涂层原理：在真空环境中，选择低压、大电流电弧放电技术，使用挥发源加热或使用电弧放电，离子轰击使镀材料积累在需要镀的商品表面。

PVD可以镀膜的薄膜层：它可以镀各种单一的金属薄膜层(金、银、铝、锌、钛等)，氧化物薄膜层（TiO等等)，渗碳体膜层（TiC，TiCN等等)，氮化物膜层（TiN，CrN，TiAiN等等，膜色调可以是纯色，也可以是七色。薄膜层厚度为微米级，真空镀膜层厚度较薄，镀膜层几乎不影响商品规格。

真空溅射涂料：

在放电过程中溅射技术的基础上，溅射通常是在电弧放电的情况下产生的。溅射应使用含有高动能的颗粒或离子束对固体表面进行轰击，以获得靠近固体表面的原子的入射颗粒，将部分能量从固体中分离出来，进入真空并在商品上积累。

影响溅射效果的因素：1.目标；2.轰击离子的质量；3.轰击离子的能量；

真空离子涂层：

在挥发镀和溅射镀的前提下，离子镀需要新的镀膜技术，真空镀和溅射镀PVD在等离子体中进行镀膜工艺，离子镀能获得膜层的优良特性，其膜层特性：

1.表面光洁度好，可严格控制堆积厚度；

2.薄膜附着力强，结合性高；

3.薄膜层厚度均匀，无边界效应；

4.膜层密度高。

真空挥发镀膜：

在真空室中，对挥发源薄膜原料进行加热，然后产生原子或分子蒸汽流入商品表面固化产生固体膜。

优点：蒸发设备比较便宜，操作简单，成膜速度快，镀膜层纯度高，质量好，能控制薄厚；

缺陷：膜层附着力低，工艺重复性不够好，不易得到膜层的结晶结构。

对于这三种PVD就涂装工艺而言，不同的商品需要选择不同的工艺，配备专用设备。PVD镀膜设备由真空腔、电源系统、控制系统、制冷系统、真空系统及零部件组成，价格各异。