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一、概念的差异
1.真空镀膜加工是指在高真空下加热金属或非金属材料，在涂层零件（金属、半导体或绝缘体）表面蒸发凝结形成薄膜的方法。
2.光学涂层是指在光学零件表面涂一层（或多层）金属（或介质）膜的过程。光学零件表面涂层的目的是减少或增加对光、分光、分色、滤波和偏振的反射。常用的涂层方法有真空涂层（物理涂层）和化学涂层。
二、原则差异
1.青岛真空镀膜加工是真空应用领域的一个重要方面。它是一种以真空技术为基础，采用物理或化学方法，吸收电子束、分子束、离子束、等离子体束、射频和磁控管等一系列新技术的薄膜制备新技术。提供科学研究和实际生产。简单地说青岛真空镀膜加工是一种在真空中蒸发或溅射金属、合金或化合物以固化和沉积在涂层物体上的方法（称为基础、基础或基础）。
2.光干涉广泛应用于薄膜光学中。光学薄膜技术的常用方法是通过真空溅射在玻璃基板上涂层，一般用于控制基板对入射光束的反射率和透射率，以满足不同的需求。为了消除光学部件表面的反射损失，提高成像质量，涂了一层或多层透明介质膜，称为抗反射膜或抗反射膜。随着激光技术的发展，对膜的反射率和透射率有不同的要求，促进了多层高反射膜和宽带抗反射膜的发展。为了满足各种应用程序的需要，高反射膜被用来制造偏振反射膜、分色膜、发光膜和干扰滤光片。涂抹在光学部件表面后，光反射和透射在各层上，形成多光束干扰。通过控制每层的折射率和厚度，可以获得不同的强度分布，这是干扰涂层的基本原理。
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