真空镀膜加工不均匀的原因

真空涂层机造成不均匀的因素有哪些？其实专门从事这方面工作的朋友都比较了解，可以分为以下因素:真空状态、磁场、氩气。真空镀膜加工的运行是电子轰击氩形成的氩离子，然后通过真空状态下的正交磁场轰击靶材，靶材离子沉积在工件表面形成薄膜。真空镀膜加工状态需要抽气系统控制，每个抽气口同时启动，强度一致，控制抽气均匀性。如果抽气不均匀，真空室内的压力不均匀，压力对离子的运动有一定的影响。此外，青岛真空镀膜加工还应控制抽气时间。太短会导致真空不足，但太长会浪费资源。然而，如果有真空计，控制它是没有问题的。

磁场正交运行，但不可能将磁场强度达到均匀。一般青岛真空镀膜加工磁场强的地方，成膜厚度大，反之亦然，会导致膜厚不一致。然而，在生产过程中，由于磁场不均匀而导致的膜层不均匀并不常见。虽然原磁场强度不容易控制，但工件也同时运行，目标原子多次沉积结束涂层过程，虽然有些部分厚，有些部分薄，但在另一段时间内，磁场强沉积在原薄部分厚，厚部分薄，所以多次，整个膜Z终成膜，均匀性相对较好。氩的送气均匀性也会影响膜的均匀性，其原理实际上与真空度相似，因为氩的进入会改变真空室的压力，均匀的压力可以控制成真空涂层机膜厚度的均匀性。

真空镀膜加工是将铝金属加热熔化到真空状态下的蒸腾。铝原子凝结在聚合物材料的表面，形成极薄的铝层。真空镀铝要求基材表面润滑、平整、厚度均匀；挺度和摩擦系数合适；外观张力大于38dyn/cm2;热性能好，能承受蒸腾源的热辐射和冷凝热效果；基材含水量低于0.1%。常用的镀铝基材有聚酯(PET)、聚丙烯(PP)、聚酰胺(PA)、聚乙烯(PE)、聚氯乙烯(PVC)等待薄膜。